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Untersuchungen zur Verwendung UV-härtender Resistmaterialien für die Nanoimprint-Lithographie

Untersuchungen zur Verwendung UV-härtender Resistmaterialien für die Nanoimprint-Lithographie
Von Markus Bender

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Produktinformation

  • Veröffentlicht am: 2003
  • Einband: Taschenbuch
  • 133 Seiten

  
 

Copyright: Alfons Oebbeke, Neustadt 1997-2010
  
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